ข้ามไปที่เนือ้หา
User's Guide to Ellipsometry. แสดงตัวอย่างรายการนี้
ปิดแสดงตัวอย่างรายการนี้

User's Guide to Ellipsometry.

ผู้แต่ง: Harland G Tompkins
สำนักพิมพ์: Dover Publications, 2013.
ครั้งที่พิมพ์/รูปแบบ:   หนังสืออีเล็กทรอนิกส์ : เอกสาร : ภาษาอังกฤษดูครั้งที่พิมพ์และรูปแบบ
สรุป:
This text on optics for graduate students explains how to determine material properties and parameters for inaccessible substrates and unknown films as well as how to measure extremely thin films. Its 14 case studies illustrate concepts and reinforce applications of ellipsometry - particularly in relation to the semiconductor industry and to studies involving corrosion and oxide growth. A User's Guide to  อ่านมากขึ้น…
กำลังสำเนาออนไลน์รายการนี้… กำลังสำเนาออนไลน์รายการนี้…

ค้นหาสำเนาในห้องสมุด

กำลังรับข้อมูลสถานที่ของรายการนี้และสามารถใช้ได้ กำลังรับข้อมูลสถานที่ของรายการนี้และสามารถใช้ได้

WorldCat

ค้นหามันในห้องสมุดทั่วโลก
ห้องสมุดทั่วโลกเป็นเจ้าของรายการนี้

รายละเอียด

ประเภท/แบบฟอร์ม Electronic books
รูปแบบทางกายภาพเพิ่มเติม Print version:
ขนิดวัสดุ: เอกสาร, ทรัพยากรอินแทอร์เน็ต
ประเภทเอกสาร แหล่งข้อมูลอินเทอร์เน็ต, ไฟล์คอมพิวเตอร์
ผู้แต่งทั้งหมด : ผู้แต่งร่วม Harland G Tompkins
ISBN: 1306366070 9781306366076 9780486151922 0486151921
OCLC Number: 868967236
คำอธิบาย: 1 online resource
สารบัญ: Title Page; Copyright Page; Table of Contents; Preface; Chapter 1 --
Theoretical Aspects; 1.1 Description of an Electromagnetic Wave; 1.2 Interaction of Light with Material; 1.2.1 The Complex Index of Refraction; 1.2.2 Laws of Reflection and Refraction; 1.2.3 Dispersion; 1.2.4 The Effect of Temperature; 1.3 Polarized Light; 1.3.1 Linearly Polarized Light; 1.3.2 Elliptically Polarized Light; 1.4 Reflections; 1.4.1 Coordinate System for Reflections; 1.4.2 Fresnel Reflection Coefficients and the Brewster Angle; 1.4.3 Total Reflection Coefficients for Multiple Interfaces. 1.5 Ellipsometry Definitions1.5.1 Del and Psi; 1.5.2 The Fundamental Equation of Ellipsometry; 1.6 References; Chapter 2 --
Instrumentation; 2.1 Fundamentals and History; 2.2 Optical Elements; 2.2.1 The Light Source; 2.2.2 Polarizers and Analyzers; 2.2.3 The Quarter-Wave Plate; 2.2.4 The Reflection; 2.2.5 The Detector; 2.3 The Manual Null Instrument; 2.3.1 Conceptual; 23.2 Actual Practice; 2.4 Rotating Element Instruments; 2.4.1 The Rotating Null Instrument; 2.4.2 The Photometric Instrument; 2.5 References; Chapter 3 --
Using Optical Parameters to Determine Material Properties. 3.1 Del/Psi and n and k for Substrates3.2 The Calculation of Del/Psi Trajectories for Films on Substrates; 3.3 Trajectories for Transparent Films; 3.4 Trajectories for Absorbing Films; 3.5 Two-Film Structures; 3.5.1 Transparent Films on Top; 3.5.2 Absorbing Films on Top; 3.6 References; Chapter 4 --
Determining Optical Parameters for Inaccessible Substrates and Unknown Films; 4.1 Inaccessible Substrates and Unknown Films; 4.2 Determining Film-Free Values of Del and Psi; 4.2.1 An Example Using One Method; 4.2.2 An Example Using Another Method. 4.3 Determining the Complex Index of Refraction of the Film4.3.1 Description of the Materials for the Example; 4.3.2 Determining the Film-Free Point; 4.3.3 The Film Index; 4.4 Summary; 4.5 References; Chapter 5 --
Extremely Thin Films; 5.1 General Principles; 5.2 Some Examples of Extremely Thin Films; 5.2.1 Oxygen and Carbon Monoxide Adsorption on Silver; 5.2.2 Adsorption of Xe on Ag(111); 5.2.3 Oxidation of Beryllium; 5.3 Summary; 5.4 References; Chapter 6 --
The Special Case of Polysilicon; 6.1 General; 6.2 Range of the Optical Constants; 6.3 Del/Psi Trajectories in General. 6.4 Effect of the Coefficient of Extinction6.5 Effect of the Index of Refraction; 6.6 Requirements; 6.7 Measuring the Thickness of Oxide on Polysilicon; 6.8 Simplifications; 6.9 References; Chapter 7 --
The Effect of Roughness; 7.1 General; 7.2 Macroscopic Roughness; 7.3 Microscopic Roughness; 7.4 Perspective; 7.5 Substrate Roughness; 7.5.1 Near-Dielectric; 7.5.2 Metallic; 7.6 Film Growth with Roughness; 7.6.1 Perspective; 7.6.2 Estimation of Uncertainty; 7.7 References; CASE STUDIES; Case 1: --
Dissolution and Swelling of Thin Polymer Films; C1.1 General; C1.2 Early Work Using a Psi-meter.

บทคัดย่อ:

This text on optics for graduate students explains how to determine material properties and parameters for inaccessible substrates and unknown films as well as how to measure extremely thin films. Its 14 case studies illustrate concepts and reinforce applications of ellipsometry - particularly in relation to the semiconductor industry and to studies involving corrosion and oxide growth. A User's Guide to Ellipsometry will enable readers to move beyond limited turn-key applications of ellipsometers. In addition to its comprehensive discussions of the measurement of film thickness and optical constants in film, it also considers the trajectories of the ellipsometric parameters Del and Psi and how changes in materials affect parameters. This volume also addresses the use of polysilicon, a material commonly employed in the microelectronics industry, and the effects of substrate roughness. Three appendices provide helpful references.
กำลังค้นคืนหมายเหตุเกี่ยวกับรายการนี้ กำลังค้นคืนหมายเหตุเกี่ยวกับรายการนี้

รีวิว

ความคิดเห็นผู้ที่ใช้งาน

แท็ก

เป็นคนแรก.

รายการคล้ายกัน

ยืนยันคำขอนี้

คุณอาจะร้องขอรายการนี้แล้. โปรดเลือก ตกลง ถ้าคุณต้องการดำเนินการคำขอนี้ต่อไป.

ปิดหน้าต่าง

กรุณาลงชื่อเข้าสู่ระบบ WorldCat 

ยังไม่มีบัญชีผู้ใช้? คุณสามารถสร้างได้อย่างง่ายดาย สร้างบัญชีผู้ใช้ฟรี.